SKIN1004 Madagascar Centella Hydratační Pleťová maska 23ml

Madagascar Centella Hyalu-Cica hydratační maska s Centellou

Jedinečná plátýnková maska pro zklidnění a hloubkovou hydrataci normální, suché i citlivé pleti. Díky vodní gelové technologii zůstává esence během aplikace aktivní a pleť z ní maximálně těží. S pleťovou maskou Madagaskar Centella si můžete užít relax i korejskou kosmetickou péči kdykoliv v pohodlí svého domova.

Hlavní benefity:

• Zklidňuje podráždění a redukuje začervenání

• Posiluje kožní bariéru

• Hloubková hydratace – 8 forem kyseliny hyaluronové

• Zabraňuje dehydrataci pokožky

• Dobře se vstřebá bez pocitu lepivosti

Klíčové složky:

• Centella Asiatica 

• Ceramidy

• Skvalan

• 8 typů kyseliny hyaluronové

Použití:

1. Po čištění naneste toner

2. Přiložte masku a nechte působit 10–20 minut

3. Masku odstraňte a zbylou esenci jemně vklepejte do pleti

Složení (hlavní):

Water, butylene glycol, glycerin, niacinamide, 1,2-hexanediol, glyceryl glucoside, xylitylglucoside, anhydroxylitol, allantoin, carbomer, arginine, xylitol, centella asiatica extract, polyglyceryl-10 laurate, ethylhexylglycerin, xanthan gum, adenosine, glucose, disodium edta, hydrogenated lecithin, musa sapientum (banana) flower extract, rosa damascena flower water, pyrus communis (pear) fruit extract, prunus domestica fruit extract, squalane, cucumis melo (melon) fruit extract, hedera helix (ivy) leaf/stem extract, sodium hyaluronate, ceramide np, cetyl ethylhexanoate, cholesterol, macadamia ternifolia seed oil, brassica campestris (rapeseed) sterols, oleic acid, stearic acid, tocopherol, hyaluronic acid, hydrolyzed hyaluronic acid, hydrolyzed sodium hyaluronate, hydroxypropyltrimonium hyaluronate, potassium hyaluronate, sodium hyaluronate crosspolymer, pentylene glycol, sodium acetylated hyaluronate.